发明名称 |
instalação para o tratamento, a vácuo, de substratos |
摘要 |
"instalação para o tratamento sob vácuo notadamente de substratos". essa instalação é notável pelo fato de que ela é composta por módulos independentes e alinhados (m) que compreendem cada um deles uma câmara de tratamento sob vácuo (c) e uma câmara de transferência (b) com meios de transferência de um substrato, para uma das diferentes câmaras ou de uma câmara para a outra situada a jusante ou a montante, diretamente ao lado ou separada de pelo menos um módulo, de modo que enquanto um substrato está em uma câmara para um tratamento específico, um outro substrato pode ser transferido para uma outra câmara para ser submetido a um outro tratamento. |
申请公布号 |
BRPI0313125(B1) |
申请公布日期 |
2017.02.21 |
申请号 |
BR20030313125 |
申请日期 |
2003.07.23 |
申请人 |
Tecmachine |
发明人 |
Gilles Fourezon;Jean-Marc Poirson |
分类号 |
C23C14/56;C23C16/54;H01L21/00;H01L21/677 |
主分类号 |
C23C14/56 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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