| 摘要 |
본 발명은 고분자 나노 구조체의 제조 방법에 관한 것으로서, 나노 패턴 구조를 포함하는 마스터 몰드를 준비하는 단계, 광경화성 고분자 수지를 마스터 몰드의 나노 패턴 구조 표면에 도포하여 광경화성 고분자 수지층을 형성하는 단계, 광을 조사하여 상기 경화성 고분자 수지층을 경화하는 단계 및 상기 고분자 수지를 상기 마스터 몰드에서 분리하는 단계를 포함하는 고분자 나노 구조체의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 고분자 나노 구조체의 제조 방법은 고분자 수지층의 측면으로 광이 입사하도록 하여 고분자 수지층을 경화하여 나노 패턴 구조에 의한 광의 간섭 없이 고분자 수지를 균일하게 경화하여 정확하고 균일한 고분자 나노 구조체를 제조 할 수 있는 장점이 있다. |
