发明名称 グラフェン量子ドット発光体の製造方法
摘要 【課題】高い量子収率を示し、発光スペクトルの半値幅の狭い狭帯発光し、優れたグラフェン量子ドットを高収率で再現性良く簡便に合成できる新規な手法を提供する。【解決手段】本発明のGQDの製造方法は、 液体ヘテロ原子含有化合物又はヘテロ原子含有化合物を溶解若しくは分散させた液に均一または不均一の貴金属触媒または半導体触媒を添加して加熱することを特徴とする。前記貴金属触媒が、Pt、Pd、Ir、Rh、Ru及びRe、並びにPt、Pd、Ir、Rh、Ru及びReのイオン、並びにPt、Pd、Ir、Rh、Ru及びReと遷移金属との合金、のうちのいずれかであり、前記半導体触媒が、Si、Ge及びSn並びにSi、Ge及びSnの酸化物のうちのいずれかである。【選択図】 図1
申请公布号 JP2017036411(A) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20150159528 申请日期 2015.08.12
申请人 株式会社KRI 发明人 植田 昌宏;川崎 剛美
分类号 C09K11/08;C09K11/65 主分类号 C09K11/08
代理机构 代理人
主权项
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