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发明名称 スパッタリング用シリサイドターゲット及びその製造方法
摘要 ターゲット内に５０μｍ２以上の大きさをもつポアが存在しないことを特徴とするスパッタリング用シリサイドターゲット。スパッタリングの際に発生するパーティクル量を大幅に低減させたスパッタリング用シリサイドターゲットを提供することを課題とする。【選択図】図１
申请公布号 JPWO2014157054(A1) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20150508465 申请日期 2014.03.24
申请人 ＪＸ金属株式会社 发明人 浅野 孝幸
分类号 C23C14/34;H01L21/285 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
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