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经营范围
发明名称
半導体装置
摘要
半導体基板上に形成された第1の配線及び第1の絶縁膜と、第1の絶縁膜上に第1のビアを介して第1の配線と接続するように形成された第2の配線と、第2の配線上に形成された第1の有機絶縁膜と、第1の有機絶縁膜中に第2の配線と接続するように形成された第2のビアと、第1の有機絶縁膜上に第2のビアを介して第2の配線と接続するように形成された第3の配線と、第1の有機絶縁膜上に形成された第2の有機絶縁膜とを有している。第2の有機絶縁膜には、第3の配線を露出するパッド開口部が設けられている。
申请公布号
JPWO2014147677(A1)
申请公布日期
2017.02.16
申请号
JP20150506371
申请日期
2013.10.03
申请人
パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人
平野 博茂;海原 一裕
分类号
H01L21/3205;H01L21/60;H01L21/768;H01L23/522
主分类号
H01L21/3205
代理机构
代理人
主权项
地址
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