| 摘要 |
기판 중심부가 주위 분위기에 노출되지 않고, 하나의 노즐로부터 토출된 처리액이 다른 노즐로부터 토출되어 기판 표면을 기판 주연부를 향하는 처리액의 흐름을 막거나 혹은 기판 중심부를 향하여 되밀지 않도록 한다. 기판 액처리 방법은, (a) 기판(W)을 연직 축선 둘레로 회전시키는 단계와, (b) 제1 노즐(411)로부터 회전하는 상기 기판의 중심부에 처리액을 공급하면서, 제2 노즐(412)로부터 회전하는 상기 기판에 처리액을 공급하고, 이때, 상기 제2 노즐로부터 공급된 처리액의 착액점을 상기 기판의 중심부로부터 상기 기판의 주연부를 향하여 이동시키는 단계와, (c) 상기 (b)의 후에, 상기 제1 노즐로부터 회전하는 상기 기판의 중심부에 계속해서 처리액을 공급하면서, 상기 제2 노즐로부터의 처리액의 공급을 정지하여 상기 제2 노즐을 상기 회전하는 기판의 중심부를 향하여 이동시키는 단계와, (d) 상기 (c)의 후에, 상기 제2 노즐로부터 회전하는 상기 기판에 처리액을 공급하는 단계를 포함한다. |
