渐变色基板制备装置及渐变色基板制备方法

摘要

本发明提供一种渐变色基板制备装置及渐变色基板制备方法。渐变色基板制备装置包括真空镀膜室、第一安装部、第二安装部、驱动部及挡板，真空镀膜室用于收容第一安装部、第二安装部及挡板，第一安装部用于安装待镀膜的基板，基板包括相对设置的第一表面及第二表面，第二安装部用于安装镀膜源，镀膜源邻近基板的第一表面设置，镀膜源用于提供镀膜材料，驱动部用于驱动真空镀膜室旋转，挡板设置在基板及镀膜源之间，挡板包括至少一个遮挡单元，遮挡单元的不同部位的宽度不同，遮挡单元用于对镀膜源发出的镀膜材料进行非均匀遮挡，以在第一表面形成厚度线性变化的光学膜层。

主权项

一种渐变色基板制备装置，其特征在于，所述渐变色基板制备装置包括真空镀膜室、第一安装部、第二安装部、驱动部及挡板，所述真空镀膜室用于收容所述第一安装部、所述第二安装部及所述挡板，所述第一安装部用于安装待镀膜的基板，所述基板包括相对设置的第一表面及第二表面，第二安装部用于安装镀膜源，所述镀膜源邻近所述基板的所述第一表面设置，所述镀膜源用于提供镀膜材料，所述驱动部用于驱动所述真空镀膜室旋转，所述挡板设置在所述基板及所述镀膜源之间，所述挡板包括至少一个遮挡单元，所述遮挡单元的不同部位的宽度不同，所述遮挡单元用于对所述镀膜源发出的所述镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述第一表面形成厚度线性变化的光学膜层。