发明名称 APPARATUS FOR REMOVING POLLUTANT OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
摘要 본 발명은 배기가스 처리장치에 관한 것으로서, 화학적 기상 증착 공정시 발생하여 하전되는 오염물질의 제거장치에 있어서, 화학적 기상 증착 공정이 수행되며 일영역에 제1관통공이 형성되는 챔버; 및 상기 제1관통공을 통하여 상기 챔버 내부로 삽입되며, 전압을 인가시 상기 오염물질이 집진되는 집진봉;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이를 통해, 전기적 집진을 통하여 화학적 기상 증착공정 중 하전되는 오염물질을 제거할 수 있는 화학적 기상 증착 공정의 오염물질 제거 장치를 제공함에 있다.
申请公布号 KR101705982(B1) 申请公布日期 2017.02.13
申请号 KR20150084873 申请日期 2015.06.16
申请人 한국기계연구원 发明人 김용진;김학준;한방우;우창규
分类号 C23C16/44;B03C3/02;C23C16/24;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/50;C23C16/511;C23C16/56 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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