发明名称 塗布液循環システムおよび光学フィルムの製造方法
摘要 時間の経過等により物性が変わる塗布液を、均一な塗布に適した状態で、連続して安定的に塗布装置に供給できる塗布液循環システムを提供する。塗布液循環システム(1)は、貯蔵釜(104)と、循環経路(R1)と、分散装置(106)とを有する。貯蔵釜(104)は、高分子を含有する塗布液を貯蔵する。循環経路(R1)は、貯蔵釜(104)に貯蔵された塗布液を順次貯蔵釜(104)から流出し、再度貯蔵釜(104)に導く。分散装置(106)は、循環経路(R1)の途中に設けられ、循環経路(R1)を通る塗布液を分散する。
申请公布号 JPWO2014136656(A1) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20150504267 申请日期 2014.02.27
申请人 コニカミノルタ株式会社 发明人 戸田 義朗;千葉 隆人;清水 和子
分类号 B05C11/10 主分类号 B05C11/10
代理机构 代理人
主权项
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