发明名称 パターンの計測方法および計測装置
摘要 【課題】本発明は、マイクロローディング効果によって発生するパターン変形等を適切に評価するパターン計測方法及び計測装置の提供を目的とする。【解決手段】上記目的を達成するために本発明では、試料上に形成されたパターンの寸法を計測するパターンの計測方法、及び装置であって、基準パターンと当該基準パターンに隣接する複数の隣接パターンとの距離、或いは前記基準パターンの複数の方向の内径を計測し、前記基準パターンと隣接パターンとの複数の距離の計測結果、或いは前記基準パターンの複数方向の内径の計測結果を、前記基準パターンと隣接するパターンの距離、或いは前記基準パターンに対する隣接するパターンの方向に応じて分類するパターン計測方法、及び装置を提案する。【選択図】 図7
申请公布号 JP2017032365(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20150151450 申请日期 2015.07.31
申请人 株式会社日立ハイテクノロジーズ 发明人 蓮見 和久;井古田 まさみ
分类号 G01B15/00;G01B15/04 主分类号 G01B15/00
代理机构 代理人
主权项
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