发明名称 銅層およびチタン層を含む多層薄膜をエッチングするためのエッチング液およびこれを用いたエッチング方法、並びに該エッチング方法を用いて得られた基板
摘要 【課題】ガラス、二酸化ケイ素および窒化ケイ素から選択される1種以上を用いた基板上に積層された銅を主成分とする銅層およびチタンを主成分とするチタン層を含む多層薄膜をエッチングするためのエッチング液、およびこれを用いた銅層およびチタン層を含む多層薄膜のエッチング方法、並びに該エッチング方法を用いて得られる基板を提供する。【解決手段】(A)過酸化水素:4.5〜7.5質量%、(B)硝酸:0.8〜6質量%、(C)フッ素化合物:0.2〜0.5質量%、(D)アゾール類:0.14〜0.3質量%、(E)アルキルアミン(E1)アルカノールアミン、(E2)ジアミン、(E3)及びシクロヘキシルアミン(E4)から選択される1種以上であるアミン化合物:0.4〜10質量%、及び(F)過酸化水素安定剤:0.005〜0.1質量%を含む水溶液であり、pH値が1.5〜2.5であるエッチング液。【選択図】図1
申请公布号 JP2017031502(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20160120440 申请日期 2016.06.17
申请人 三菱瓦斯化学株式会社 发明人 山田 洋三;本望 圭紘;後藤 敏之
分类号 C23F1/18;C23F1/26;H01L21/306;H01L21/308 主分类号 C23F1/18
代理机构 代理人
主权项
地址