发明名称 |
金属酸化物前駆体薄膜パターンの製造方法、金属酸化物薄膜パターンの製造方法及び該方法により製造された金属酸化物薄膜パターン並びに電子部品 |
摘要 |
【課題】印刷製造技術において、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程を必要としない、金属酸化物前駆体薄膜パターンの製造方法、金属酸化物薄膜パターンの製造方法、該製造方法により製造される金属酸化物薄膜パターン、及び該パターンを備える電子部品を提供する。【解決手段】金属酸化物薄膜を形成するための前駆体薄膜を基材に塗布した後、半乾燥化させた前駆体薄膜に、粘着材シートを当接して、不要な領域を基材から引き剥がすことにより、金属酸化物前駆体薄膜のパターンを製造する。前記前駆体薄膜のパターニングを行った後に、加熱処理等の酸化処理により、金属酸化物薄膜パターンを得ることができる。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2017034026(A) |
申请公布日期 |
2017.02.09 |
申请号 |
JP20150150675 |
申请日期 |
2015.07.30 |
申请人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
发明人 |
日下 靖之;小倉 晋太郎;牛島 洋史;藤田 真理子 |
分类号 |
H01L21/368;H01L21/28;H01L21/288;H01L21/316;H01L21/3205;H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/368 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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