发明名称 |
LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
摘要 |
리소그래피 장치에서, 조명 모드는 퓨필 면 거울 상의 선택가능한 위치들로 방사선을 지향시키기 위한 복수의 이동가능한 면들을 포함하는 필드 거울을 이용하여 설정된다. 필드 면 거울이 결함이 있고 원하는 위치에 설정될 수 없는 경우, 이동가능한 면 거울들 중 다른 거울이 원하는 위치와는 상이한 보정 위치에 설정되어 결함이 있는 면 거울의 악영향을 적어도 부분적으로 완화시킨다. |
申请公布号 |
KR101703830(B1) |
申请公布日期 |
2017.02.08 |
申请号 |
KR20127015468 |
申请日期 |
2010.09.08 |
申请人 |
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
发明人 |
반 슈트, 얀;반 잉겐 세나우, 코엔;데 브리스, 고쎄 |
分类号 |
G03F7/20;G02B5/09;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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