发明名称 一种GaN基发光二极管结构及其制备方法
摘要 本发明涉及一种GaN基发光二极管结构,包括衬底、n型GaN导电层、n型AlGaN限制层、有源区发光层、p型AlGaN限制层、p电极和n电极,其中:在所述p型AlGaN限制层的上表面或下表面沉积有一层p型金刚石薄膜导电层,所述p型金刚石薄膜导电层的横截面积大小与p型AlGaN限制层的大小相同,厚度为50‑500nm。本发明的金刚石薄膜对全波段光的吸收作用很弱,减小了吸光问题,可以有效提高LED的出光效率;金刚石的禁带宽度较大,对电子的反射作用强,能够减小电子泄露,提高亮度;p型金刚石薄膜掺杂容易,空穴浓度较高,易于制备欧姆接触。
申请公布号 CN104022203B 申请公布日期 2017.02.08
申请号 CN201310074695.3 申请日期 2013.02.28
申请人 山东浪潮华光光电子股份有限公司 发明人 王成新;徐明升;曲爽;马旺;徐现刚
分类号 H01L33/40(2010.01)I;H01L33/02(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/40(2010.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种GaN基发光二极管结构,包括衬底、n型GaN导电层、n型AlGaN限制层、有源区发光层、p型AlGaN限制层、p电极和n电极,其特征在于,在所述p型AlGaN限制层的上表面或下表面沉积有一层p型金刚石薄膜导电层,厚度为50‑500nm。
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