| 摘要 |
본 발명은, 광범위한 반복 주파수 대역에서 고정밀도로 제어 가능한 시간 변조된 간헐적인 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원을 구비하는 플라즈마 처리장치 및 상기 플라즈마 처리장치를 이용한 플라즈마 처리방법을 제공한다. 진공용기와, 당해 진공용기 안에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 생성수단과, 상기 진공용기 안에 설치되어 시료를 재치하는 시료대와, 시간 변조된 간헐적인 고주파 전력을 상기 시료대에 인가하는 고주파 전원을 구비하는 플라즈마 처리장치에 있어서, 상기 고주파 전원은, 2개 이상의 서로 다른 주파수 대역을 가지고, 상기 주파수 대역의 각각이 사용하는 아날로그 신호의 범위가 동일한 반복 주파수에 의해 고주파 전력을 시간 변조하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치이다. |
