发明名称 ウエーハの生成方法
摘要 【課題】 インゴットから効率よくウエーハを生成することのできるウエーハの生成方法を提供することである。【解決手段】 六方晶単結晶インゴットからウエーハを生成するウエーハの生成方法であって、インゴット表面の垂線に対してc軸がオフ角分傾き、表面とc面との間にオフ角が形成される方向と直交する方向にレーザービームの集光点を相対的に移動して直線状の改質層を形成する改質層形成ステップを含む。改質層形成ステップにおいて、レーザービームのスポット面積の全てがインゴットの上面に重なるまでウエーハの厚みに相当する深さに至らない位置から放物線を描くようにレーザービームの集光点を位置付け、スポット面積の全てが上面に重なった時点で集光点をウエーハの厚みに相当する深さに位置付ける。【選択図】図9
申请公布号 JP2017024014(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20150141899 申请日期 2015.07.16
申请人 株式会社ディスコ 发明人 平田 和也
分类号 B23K26/53;B23K26/08;H01L21/304 主分类号 B23K26/53
代理机构 代理人
主权项
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