| 摘要 |
【課題】低酸素量、高密度、低抵抗の窒化ガリウム薄膜用スパッタリングターゲットの製造方法の提供。【解決手段】酸素含有量が１ａｔｍ％以下であり、抵抗率が１×１０２Ω・ｃｍであり、好ましくは、密度が３．０〜５．４ｇ／ｃｍ３以下であり、焼結体の重量が１０ｇ以上である、窒化ガリウム系焼結体。酸素含有量２ａｔｍ％以下の窒化ガリウム粉末を原料とし、ホットプレス時にチャンバー中の到達真空度が７０Ｐａ以下、１０６０℃以上１３００℃未満で加熱して焼結し、インジウム、錫、亜鉛のうち少なくとも１成分をボンディング層として含み、ターゲット部材とボンディング層の間にタングステンを含む層が存在しないスパッタリングターゲットの製造方法。【選択図】なし |
