发明名称 蚀刻剂组合物,利用它制造液晶显示装置的阵列基板的方法和阵列基板
摘要 本发明涉及蚀刻剂组合物,以及利用它制造液晶显示装置的阵列基板的方法和阵列基板。当使用本发明的蚀刻剂组合物蚀刻铜基金属层时,得到优秀的蚀刻剖面和数量多的加工板。
申请公布号 CN106367755A 申请公布日期 2017.02.01
申请号 CN201610121704.3 申请日期 2016.03.04
申请人 东友精细化工有限公司 发明人 鞠仁说;南基龙;崔汉永;刘仁浩;金宝衡;李钟文
分类号 C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;H01L21/77(2017.01)I;H01L21/3213(2006.01)I 主分类号 C23F1/18(2006.01)I
代理机构 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 代理人 钟锦舜
主权项 用于铜基金属层的蚀刻剂组合物,其相对于所述组合物的总重量,包含,0.5重量%至10重量%的铜化合物;0.01重量%至2重量%的氟化合物;1重量%至10重量%的一种或多种类型无机酸,其选自由硝酸、硫酸、磷酸和高氯酸所组成的组;0.1重量%至10重量%的一种或多种类型氯化合物,其选自由盐酸、氯化钠、氯化钾、氯化铵、甲磺酰氯、乙磺酰氯、氯苯磺酰氯、苯磺酰氯和氯乙磺酰氯所组成的组;1重量%至10重量%的一种或多种类型有机酸,其选自由乙酸、丁酸、柠檬酸、甲酸、葡糖酸、乙醇酸、草酸、戊酸、磺基苯甲酸、磺基琥珀酸、磺基邻苯二甲酸、水杨酸、磺基水杨酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、苹果酸、酒石酸、异柠檬酸、丙酸、亚氨基二乙酸和乙二胺四乙酸所组成的组,或其盐;0.1重量%至10重量%的一种或多种类型非金属无机盐,其选自由硫酸铵、硫酸钠、硫酸钾、硫酸钙、硫酸氢铵、硫酸氢钠、硫酸氢钾、硫酸氢钙、硝酸铵、硝酸钠、硝酸钾和硝酸钙所组成的组;0.01重量%至5重量%的环胺化合物;0.5重量%至10重量%的螯合剂;和余量的水,其中,所述螯合剂是1)顺型二羧酸或其盐,2)选自由马来酸、柠康酸、邻苯二甲酸、1,2,4,5‑苯四羧酸、苯六甲酸、4‑磺基邻苯二甲酸、喹啉酸、顺‑5‑降冰片烯‑外‑2,3‑二羧酸、1,2,3,4‑环丁烷四羧酸和顺,顺,顺,顺‑1,2,3,4‑环戊烷四羧酸的一种或多种类型所组成的组,或其盐,或3)选自由丙二酸、琥珀酸和戊二酸所组成的组中的一种或多种类型,或其盐。
地址 韩国全罗北道