| 摘要 |
本発明は、主室（１１）の内部にガスを噴射する処理部（１０）と、主室（１１）の内部および外部の双方に連通するシール室（１３，１４）と、主室（１１）および／またはシール室（１３，１４）の内部を排気する排気部（１５）と、シール室（１３，１４）の内部の圧力と第１の基準圧力との第１の差圧を制御する制御部（１７）とを備える処理装置において、排気部（１５）は、シール室（１３，１４）の内部を排気する第１排気系統（１５０）を有し、制御部（１７）は、主室（１１）の内部に噴射されるガスの量の増加に応じて動作モードを、第１の差圧に基づくフィードバック制御をして第１排気系統（１５０）を動作させる第１モードから、第１の差圧に基づくフィードバック制御とは異なる制御をして第１排気系統（１５０）を動作させる第２モードに移行させるものである。当該構成により、処理部により短時間に大量のガスが噴射されても、主室からのガスの流出及び主室内への外気の流入を抑制することができる。 |
