| 摘要 |
【課題】良好なフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジストパターンの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】式（ＩＩ）で表される構造単位を、樹脂（Ａ１）の全構造単位の合計に対して、１モル％以上９モル％以下で含有し、かつ、及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂（Ａ１）及び酸発生剤を含有するレジスト組成物を基板上に塗布する工程、塗布後のレジスト組成物を乾燥、ＡｒＦエキシマレーザにより液浸露光、加熱、ネガ型現像液により現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。［式中、Ｒ２は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等；Ｌ１は、単結合又は＊−Ｌ２−ＣＯ−Ｏ−（Ｌ３−ＣＯ−Ｏ）ｇ−、＊は、酸素原子との結合手；Ｌ２、Ｌ３及びＬ４はそれぞれ２価の炭化水素基；ｇは０又は１；ｎは１〜３の整数；Ｒ３は炭化水素基を表す。］【選択図】なし |
