发明名称 一种进气装置、反应腔室及等离子体加工设备
摘要 本发明涉及一种进气装置、反应腔室及等离子体加工设备,包括进气管路、多个出气管路、比例控制装置和旋转驱动装置;旋转驱动装置的驱动轴与比例控制装置连接,用于驱动比例控制装置绕其中心轴作旋转运动;比例控制装置的一端设有与进气管路连通的第二进气孔,其侧面设有第二出气孔组,每个第二出气孔组包括多组第二出气孔,每组第二出气孔包括多个与第二进气孔连通的第二出气孔;每组第二出气孔中第二出气孔的数量与出气管路的数量相等;且每组第二出气孔的多个第二出气孔用于与多个第一进气孔一一对应地连通;每个第二出气孔在与第一进气孔连通时开启。上述进气装置可以在更大范围内控制工艺气体在腔室内的分布,从而使其适用的工艺环境更广泛。
申请公布号 CN104681385B 申请公布日期 2017.01.25
申请号 CN201310641553.0 申请日期 2013.12.03
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 郑友山;彭宇霖;刘凯
分类号 H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 彭瑞欣;张天舒
主权项 一种进气装置,包括进气管路和多个出气管路,所述多个出气管路中的每个出气管路包括第一进气孔和第一出气孔,所述多个出气管路的第一出气孔分别与反应腔室内的不同区域连通,其特征在于,所述进气装置还包括比例控制装置和旋转驱动装置,其中,所述旋转驱动装置的驱动轴与所述比例控制装置连接,用于驱动所述比例控制装置绕其中心轴作旋转运动;所述比例控制装置的侧壁以所述比例控制装置的中心轴为旋转对称轴呈中心对称;所述比例控制装置的一端设有与进气管路连通的第二进气孔,其侧面设有第二出气孔组,第二出气孔组包括多组第二出气孔,每组第二出气孔包括多个与第二进气孔连通的第二出气孔;所述每组第二出气孔中第二出气孔的数量与所述出气管路的数量相等;且所述每组第二出气孔中的多个第二出气孔用于与所述多个第一进气孔一一对应地连通;所述每个第二出气孔在与所述第一进气孔连通时开启;并且所述第一进气孔的孔径大于每组第二出气孔中与其对应的第二出气孔的孔径;在第二出气孔组的任意两组第二出气孔中,其中一组第二出气孔的多个第二出气孔的孔径与另一组第二出气孔的多个第二出气孔的孔径不完全相等;所述第二出气孔组的多组第二出气孔中,与同一第一进气孔对应的第二出气孔均处于所述比例控制装置的一垂直于中心轴的截面上。
地址 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
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