| 摘要 |
유한 수의 결함을 갖는 입자-광학 리소그래피 장치의 차단 개구 어레이에 의해 타겟 위에 소정의 패턴을 노출시키기 위한 노출 패턴이 계산되고, 상기 소정의 패턴은 상기 타겟 위의 이미지 에어리어 내의 다수의 이미지 엘리먼트로 구성되어 있고, 결함 차단 개구의 타입에 대한 정보를 포함하는 결함 차단 개구의 리스트가 제공되고; 상기 소정의 패턴으로부터 상기 결함 차단 개구를 무시하는 이미지 엘리먼트 위의 래스터 그래픽스로서 공칭 노출 패턴이 계산되고; 결함 차단 개구의 개구 이미지에 의해 노출되는 "절충" 엘리먼트가 결정되고; 각 절충 엘리먼트에 대해, "보정 엘리먼트"로서 이웃 이미지 엘리먼트의 세트가 선택되고; 각 절충 엘리먼트에 대해, 상기 보정 엘리먼트에 대해 보정 선량 값이 계산되고, 상기 보정 선량 값은 상기 보정 선량 값의 각각이 허용된 선량 안에 있는 제약하에, 상기 공칭 선량 분포로부터 결함을 포함하는 선량 분포의 편차의 초아 함수를 최소화하고; 상기 보정 노출 패턴이 상기 보정 선량 값을 보정 엘리먼트의 공칭 선량 값으로 대체함으로써 생성된다. |
