An atomic layer deposition reactor for processing a batch of substrates and method thereof

摘要

본 발명은 원자층 퇴적 공정에 의하여 뱃치의 기판들을 처리하기 위한 원자층 퇴적 반응기의 반응 챔버 모듈을 제공하는 단계; 및 처리 전에 상기 반응 챔버 모듈 속으로의 상기 뱃치의 기판들을 처리 후 상기 기판들의 뱃치가 언로드되는 것과 다른 경로를 통해서 로드하는 단계를 포함한다. 본 발명은 또한 이에 대응하는 장치에 관한 것이다.