发明名称 レジスト下層膜形成組成物
摘要 【課題】プロピレングリコールモノメチルエーテルを主成分とする溶剤に対する溶解性に優れたレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式(1a)又は式(1c)で表される構造単位、及び下記式(1b)で表される構造単位を有するポリマーと、プロピレングリコールモノメチルエーテルを50質量%を超えて含有する溶剤とを含み、前記式(1a)又は式(1c)で表される構造単位と式(1b)で表される構造単位とは交互に配列してなる、レジスト下層膜形成組成物。【化1】(式(1a)及び式(1b)中、Qはフェニレン基又はナフチレン基を表し、mは1又は2を表し、nはそれぞれ独立に0又は1を表す。)【選択図】なし
申请公布号 JPWO2014109186(A1) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 JP20140556351 申请日期 2013.12.17
申请人 日産化学工業株式会社 发明人 大橋 智也;木村 茂雄;緒方 裕斗
分类号 G03F7/11;C08G59/40;C08G63/42;G03F7/004;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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