发明名称 半導体装置
摘要 【課題】電極の劣化を抑制できる半導体装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、第1導電形の第1半導体領域、第2導電形の第2半導体領域、第1電極、半絶縁層、および絶縁層を有する。第1半導体領域は、第1領域と、第1領域の周りに設けられた第2領域と、を有する。第2半導体領域は、第1半導体領域の第1領域の上に設けられている。第1電極は金属を含み、第2半導体領域の上に設けられている。半絶縁層は、第2領域の上に設けられている。半絶縁層の一部は、第1電極の上に位置する。絶縁層の少なくとも一部は、半絶縁層と第1電極との間に設けられている。【選択図】図2
申请公布号 JP2017017145(A) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 JP20150131380 申请日期 2015.06.30
申请人 株式会社東芝 发明人 白石 達也;土谷 政信
分类号 H01L29/78;H01L21/28;H01L21/283;H01L21/318;H01L21/336;H01L29/12;H01L29/41;H01L29/739;H01L29/861;H01L29/868 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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