发明名称 プラズマ処理装置
摘要 【課題】載置台からのフォーカスリングの剥離性を向上すること。【解決手段】プラズマ処理装置は、被処理基板を収容する減圧された収容室と、該収容室内に配置されて被処理基板を載置する冷却機構を内蔵した載置台と、被処理基板の周縁部を囲うように載置台に載置される環状のフォーカスリングとを備える。プラズマ処理装置は、載置台とフォーカスリングとの間に、熱伝導性シリコーンシートを配置している。熱伝導性シリコーンシートは、ポリオルガノシロキサン100重量部に対して熱伝導性粒子を100〜2000重量部含む熱伝導性シリコーンシートである。熱伝導性シリコーンシートは、固化層と、固化層の両面に貼り付けられた粘着層とを有する。粘着層と載置台との界面、及び粘着層とフォーカスリングとの界面の夫々において、接着状態が保持され、粘着層と固化層との界面において、粘着状態が保持される。【選択図】図3
申请公布号 JP2017017054(A) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 JP20150128814 申请日期 2015.06.26
申请人 東京エレクトロン株式会社 发明人 矢幡 将二郎
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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