发明名称 A ALD APPARATUS FOR LARGE SUBSTRATE
摘要 본 발명은 다수장의 대면적 유리 기판을 수직 방향으로 적재한 상태에서 각 기판에 대하여 원자층 증착 공정을 수행할 수 있는 배치형 대면적 원자층 증착 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 대면적 원자층 증착 장치는, 하면 및 전후 양면이 개방된 구조를 가지는 내부 챔버; 상기 내부 챔버의 전면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버 방향으로 공정 가스를 층상흐름으로 공급하는 공정 가스 공급부; 상기 내부 챔버의 후면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 기체를 흡입하여 배출하는 기체 흡입 배출부; 다수개의 대면적 기판이 층상 흐름 간격을 가지고 수평 방향으로 적층되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 하면에 결합되어 상기 내부 챔버의 밀폐 구조를 완성하는 카세트; 상기 카세트 하면에 결합되어 설치되며, 상기 카세트를 상하 방향으로 구동시키는 카세트 상하 구동부; 상기 내부 챔버 및 카세트를 외측에서 감싸도록 설치되며, 내부를 진공 상태로 유지할 수 있는 외부 챔버;를 포함한다.
申请公布号 KR101698021(B1) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 KR20140195037 申请日期 2014.12.31
申请人 주식회사 엔씨디 发明人 신웅철;최규정;백민
分类号 H01L21/205;H01L21/02 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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