| 摘要 |
【課題】基板上の処理液を効率的に置換する技術を提供する。【解決手段】基板処理方法において、第１液膜形成工程は、ウエハＷの表面に第１処理液を供給して、第１処理液の液膜ＬＭを形成する。第２液膜形成工程は、処理液を吐出する吐出口６１３と、ウエハＷの表面の液膜ＬＭ中の処理液を吸引する吸引口６１４とを備えたノズル部６を移動させながら、吐出口６１３から第２処理液を吐出すると共に、吸引口６１４から液膜ＬＭ中の第１処理液を吸引して、液膜ＬＭ内の処理液を第１処理液から第２処理液に置換することにより、第２処理液の液膜ＬＭを形成する。回収工程では、第２液膜形成工程の期間中、吸引口６１４から吸引された液体の回収を行う。【選択図】図９ |
