发明名称 COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND RESIN STRUCTURE HAVING CONDUCTIVE PATTERN THEREON
摘要 본 발명은 각종 고분자 수지 제품 또는 수지층의 변형 없이 상기 고분자 수지 제품 또는 수지층 상에 단순화된 공정으로 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있게 하며, 다양한 색상 구현 등의 당업계의 요구를 보다 효과적으로 충족할 수 있게 하는 도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체에 관한 것이다.
申请公布号 KR101698159(B1) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 KR20150109125 申请日期 2015.07.31
申请人 주식회사 엘지화학 发明人 정한나;이하나;박철희;박치성;김재현;전신희;이률;김민지
分类号 H01B1/22;C08J7/18;H01B5/14;H01B13/00 主分类号 H01B1/22
代理机构 代理人
主权项
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