| 发明名称 | 陶瓷静电卡盘装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种陶瓷静电卡盘装置，属于半导体晶片加工技术领域，所述陶瓷静电卡盘装置包括介电层、电极层、绝缘层，在所述介电层靠近所述电极层的表面设置有第一金属化层，在所述第一金属化层靠近所述电极层的表面设置有第一镀镍层，在所述绝缘层靠近所述电极层的表面设置有第二金属化层，在所述第二金属化层靠近所述电极层的表面设置有第二镀镍层。本实用新型的静电卡盘装置气密性高，静电吸附力均匀，方便加工。 | ||
| 申请公布号 | CN205900519U | 申请公布日期 | 2017.01.18 |
| 申请号 | CN201620610232.3 | 申请日期 | 2016.06.20 |
| 申请人 | 北京华卓精科科技股份有限公司 | 发明人 | 徐登峰;朱煜;杨鹏远;许岩;成荣;唐娜娜;侯占杰;雷忠兴;王建冲;韩玮琦 |
| 分类号 | H01L21/687(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/687(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京恩赫律师事务所 11469 | 代理人 | 赵文成 |
| 主权项 | 一种陶瓷静电卡盘装置，其特征在于，包括介电层、电极层、绝缘层，在所述介电层靠近所述电极层的表面设置有第一金属化层，在所述第一金属化层靠近所述电极层的表面设置有第一镀镍层，在所述绝缘层靠近所述电极层的表面设置有第二金属化层，在所述第二金属化层靠近所述电极层的表面设置有第二镀镍层。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区清华大学学研综合楼B902室 | ||