| 发明名称 | 记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种记录介质。记录介质顺次包括基材、第一墨接收层和作为最表层的第二墨接收层，其中第一墨接收层为邻接第二墨接收层的层，第一墨接收层包含气相法二氧化硅，第二墨接收层包含胶体二氧化硅和树脂颗粒，且胶体二氧化硅存在于记录介质表面的面积为10％以上且70％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN104339909B | 申请公布日期 | 2017.01.18 |
| 申请号 | CN201410383990.1 | 申请日期 | 2014.08.06 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 野口哲朗;加茂久男;小栗勲;汤本真也 |
| 分类号 | B41M5/50(2006.01)I | 主分类号 | B41M5/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人 | 魏启学 |
| 主权项 | 一种记录介质，其特征在于，所述记录介质顺次包括基材、第一墨接收层和作为最表层的第二墨接收层，其中所述第一墨接收层为邻接所述第二墨接收层的层，所述第一墨接收层包含气相法二氧化硅，所述第二墨接收层包含胶体二氧化硅和树脂颗粒，所述胶体二氧化硅存在于所述记录介质的表面的面积为10％以上且70％以下，和所述胶体二氧化硅的平均一次粒径为20nm以上且100nm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号 | ||