| 发明名称 |
PROCESS FOR PRODUCING MULTILAYER FILM |
| 摘要 |
본 발명은 굴곡하더라도 배리어성이 저하되기 어렵고, 도전성도 저하되기 어려운 적층 필름을 제조할 수 있는 방법을 제공한다. 이 방법에서는 수지 필름 상에 배리어막 및 투명 도전막을 형성함으로써, 적층 필름을 제조한다. 배리어막의 형성은 롤간 방전 플라즈마 CVD법에 의해 행한다. 투명 도전막의 형성은 물리 기상 성장법에 의해 행하는 것이 바람직하고, 수지 필름으로는 폴리에스테르 수지 필름이나 폴리올레핀 수지 필름을 이용하는 것이 바람직하다. |
| 申请公布号 |
KR101697806(B1) |
申请公布日期 |
2017.01.18 |
| 申请号 |
KR20127010602 |
申请日期 |
2010.10.26 |
| 申请人 |
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 |
发明人 |
하세가와, 아끼라;구로다, 도시야;사나다, 다까시 |
| 分类号 |
H01B13/00;C23C16/40;H01L31/0224;H01L51/52 |
主分类号 |
H01B13/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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