| 发明名称 |
COMPOSITIONS COMPRISING SULFONAMIDE MATERIAL AND PROCESSES FOR PHOTOLITHOGRAPHY |
| 摘要 |
침지 리소그래피에 유용한 신규 포토레지스트 조성물이 제공된다. 본 발명의 바람직한 포토레지스트 조성물은 설폰아미드 치환을 가지는 하나 이상의 물질을 포함한다. 본 발명의 특히 바람직한 포토레지스트는 침지 리소그래피 처리동안 레지스트층과 접촉하는 침지 유체로 레지스트 물질이 침출하는 것을 감소시킬 수 있다. |
| 申请公布号 |
KR101697506(B1) |
申请公布日期 |
2017.01.18 |
| 申请号 |
KR20090112130 |
申请日期 |
2009.11.19 |
| 申请人 |
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 |
发明人 |
왕 더옌;우 춘이;바클레이 조지 지.;쉬 청-바이 |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/075;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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