发明名称 HEAD CLEANING UNIT AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING THE SAME
摘要 본 발명은 잉크젯 방식으로 액을 토출하는 헤드를 세정하는 헤드 세정 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따라 잉크젯 방식으로 액을 토출하는 노즐들이 형성된 헤드를 세정하는 헤드 세정 유닛은, 제1 영역과 제2 영역을 가지고, 상기 제1 영역에는 상방을 향해 길이 방향을 따라 개구부가 형성되며 내부에 상기 헤드에 공급되는 케미컬이 상기 노즐들을 통해 토출시 상기 케미컬을 수거하는 수거 공간을 갖는 바디와, 상기 제2 영역에 형성되어 상기 헤드에 잔류하는 케미컬을 흡입하는 석션 노즐을 포함하되, 상기 헤드는 제1 영역에서 제2 영역을 향해 제1 방향으로 이동한다.
申请公布号 KR101696195(B1) 申请公布日期 2017.01.16
申请号 KR20130168194 申请日期 2013.12.31
申请人 세메스 주식회사 发明人 박태현;이병주;박준우
分类号 B05B15/02;B05B15/06 主分类号 B05B15/02
代理机构 代理人
主权项
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