| 摘要 |
【課題】半導体ウエハ等のワークや半導体チップ等の加工物について、その裏面を保護するとともに、外観を向上させるための保護膜を形成可能な保護膜形成用フィルム及び保護膜形成用シート、これらを使用するワーク又は加工物の製造方法、これらを使用する検査方法、並びに前記検査方法により良品と判断されたワーク及び加工物の提供。【解決手段】顔料を含有し、前記顔料の含有量が２．６質量％以上であり、波長５５０ｎｍの光線透過率が１５％以下である保護膜形成用フィルム１；基材４１の一方の面側に粘着剤層４２が積層されてなる粘着シート４と、粘着シート４の粘着剤層４２側に積層された保護膜形成用フィルム１とを備えた、保護膜形成用シート３；保護膜形成用フィルム１又は保護膜形成用シート３を使用して、ワーク又は前記ワークが分割加工されてなる加工物に保護膜を形成する、ワーク又は加工物の製造方法。【選択図】図２ |
