| 摘要 |
【課題】 自己組織化膜の下層に用いられる下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】 置換されていても良いスチレンに由来する単位構造と架橋形成基含有化合物に由来する単位構造とのみからなるポリマーであって、該ポリマーの全単位構造中にスチレンに由来する単位構造が６０乃至９５モル％、架橋形成基含有化合物に由来する単位構造が５乃至４０モル％の割合からなる該ポリマーを含む自己組織化膜の下層膜形成組成物。架橋形成基がヒドロキシ基、エポキシ基、保護されたヒドロキシ基、又は保護されたカルボキシル基である。架橋形成基含有化合物が、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートである。【選択図】 なし |
