| 发明名称 | 一种旋转靶及磁控溅射装置 | ||
| 摘要 | 本发明实施例提供一种旋转靶及磁控溅射装置，涉及磁控溅射技术领域，用以解决靶材混合成型后无法进行组分调整的问题。该旋转靶，包括多个靶单元，各个靶单元围绕旋转轴线可拆卸连接构成封闭结构。 | ||
| 申请公布号 | CN106319465A | 申请公布日期 | 2017.01.11 |
| 申请号 | CN201610726371.7 | 申请日期 | 2016.08.25 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 张斌;詹裕程;孙雪菲;周婷婷;舒适;王新星 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种旋转靶，其特征在于，包括多个靶单元，各个所述靶单元围绕旋转轴线可拆卸连接构成封闭结构。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||