发明名称 substrate treatment apparatus
摘要 평판표시소자용 기판을 제조하는 작업에 사용하는 기판처리장치를 개시한다. 그러한 기판처리장치는, 프레임과, 상기 프레임 상에서 회전축의 축선을 중심으로 회전되면서 일측에서 타측을 향하여 기판을 이송할 수 있도록 형성된 이송로울러들과, 상기 이송로울러들의 회전축 양쪽 단부를 상기 프레임 상에서 회전 가능하게 지지할 수 있도록 형성된 지지플레이트로 구성되는 로울러지지부 그리고, 상기 로울러지지부 측에 놓여진 회전축들의 양쪽 단부를 나사 결합력에 의해 상,하 방향으로 움직이면서 상기 프레임 상에서 상기 이송로울러들 간의 높낮이 편차를 조절 및 셋팅할 수 있도록 형성된 조절구로 구성되는 레벨조절수단을 포함한다.
申请公布号 KR101693739(B1) 申请公布日期 2017.01.06
申请号 KR20100084279 申请日期 2010.08.30
申请人 주식회사 디엠에스 发明人 박환서
分类号 H01L21/677;B65G39/12;B65G49/06;G02F1/13 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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