基板処理機構及びこれを用いた小型製造装置

摘要

【課題】小型の処理基板であっても回転テーブルとの間に洗浄液が浸入し難く、且つ、洗浄後に処理基板の裏面を確実に乾燥させることができる基板処理機構及びこれを用いた小型製造装置を提供する。【解決手段】洗浄液ノズルに、回転軸の載置面を囲むように、環状のノズル口を形成する。そして、洗浄液の液面をノズル口から隆起させて、半導体ウェハの裏側露出面に接触させ、この洗浄液の表面張力によって裏側露出面に略環状に付着させる。付着した洗浄液は、半導体ウェハの回転によって遠心力を与えられて外側に移動して、この半導体ウェハの外周縁に付着したフォトレジスト液を洗い流す。その後、回転軸を上昇させて、裏側露出面に付着した洗浄液をノズル口から引き離し、半導体ウェハの回転によって洗浄液を飛散させる。これにより、半導体ウェハの裏側露出面を簡単に乾燥させることができる。