| 摘要 |
Auffangvorrichtung für zerstäubtes Material beim Ionenstrahlätzen mit einer Ionenstrahlquelle im Vakuum, welche zusammen mit der Ionenstrahlquelle einer zu ätzenden Seite eines Substrates gegenüberliegend angeordnet ist, wobei die Auffangvorrichtung aus mehreren Teilen besteht, die jeweils eine Teilfläche aufweisen, von welcher durch auftreffende Ionen der Ionenstrahlquelle Material abgestäubt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die mehreren Teile derart parallel zueinander ausgerichtet, mit einem Abstand und versetzt zueinander angeordnet sind, dass die Richtung der Zerstäubung (5) vorrangig vom Substrat (2) weggerichtet ist. |
