发明名称 半導体装置
摘要 本明細書が開示する第1の半導体装置は、アノード領域と、カソード領域とを有する半導体基板を備えている。アノード領域は、半導体基板の表面から第1の深さとなる位置に第1導電型の不純物濃度の最大値を有する、第1導電型の第1領域と、第1の深さより半導体基板の表面側の第2の深さとなる位置に第1導電型の不純物濃度の最大値を有する第1導電型の第2領域と、第1領域と第2領域との間に設けられ、第1導電型の不純物濃度が半導体基板の表面の1/10以下である第3領域と、を含む。
申请公布号 JPWO2014087499(A1) 申请公布日期 2017.01.05
申请号 JP20140550844 申请日期 2012.12.05
申请人 トヨタ自動車株式会社 发明人 亀山 悟
分类号 H01L29/861;H01L21/329;H01L27/04;H01L29/06;H01L29/739;H01L29/78;H01L29/868;H01L29/872 主分类号 H01L29/861
代理机构 代理人
主权项
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