发明名称 半導体装置およびその製造方法ならびに電力変換装置
摘要 【課題】トレンチゲート構造において、チャネルの電気特性を確保しつつ、耐電圧特性を向上させる。【解決手段】半導体装置は、上面と側面とを有する台地状を成すメサ構造と、メサ構造の周囲に広がる周囲面と、を有する第1のn型半導体層と;周囲面と側面とが成す角部から少なくとも側面にわたって形成された第1のp型半導体層と;第1のp型半導体層より低い濃度でアクセプタ元素を含有し、第1のp型半導体層の上に形成された第2のp型半導体層と;第1のn型半導体層より高い濃度でドナー元素を含有し、第2のp型半導体層の上に形成された第2のn型半導体層と;第2のn型半導体層から第2のp型半導体層を貫通し上面の内側に至るまで落ち込んだ溝部と;溝部の表面に形成された絶縁膜と;絶縁膜を介して溝部に形成された電極とを備える。【選択図】図3
申请公布号 JP2017005236(A) 申请公布日期 2017.01.05
申请号 JP20150178990 申请日期 2015.09.11
申请人 豊田合成株式会社 发明人 藤井 隆弘;小嵜 正芳;丹羽 隆樹
分类号 H01L29/78;H01L21/20;H01L21/336;H01L29/06;H01L29/12 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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