| 主权项 |
电容位移传感器标定装置，其特征在于，包括电容位移机构和干涉仪机构；所述电容位移机构包括标定台基座(1)、标定台支撑架(2)、传感器支撑架(3)、驱动器(4)、标定台静平台(5)、铰链(6)、标定台动平台(7)、测量单元、传感器固定座(13)、电容传感器(14)、被测面板(15)和驱动器推杆(16)；所述标定台支撑架(2)至少为三个，所有标定台支撑架(2)的底端均固定在标定台基座(1)上；所述传感器支撑架(3)的底端固定在标定台基座(1)上；所述传感器固定座(13)固定在传感器支撑架(3)上；所述电容传感器(14)固定在传感器固定座(13)上，电容传感器(14)测量电容传感器(14)与被测面板(15)之间的位移变化量；所述标定台静平台(5)固定在所有标定台支撑架(2)的顶端并通过传感器支撑架导向孔(5‑2)套装在传感器支撑架(3)外；所述铰链(6)至少为三个，所有铰链(6)的底端均固定在标定台静平台(5)的顶面上，所有铰链(6)的顶端均固定在标定台动平台(7)的底面上；所述标定台动平台(7)通过传感器导向孔(7‑1)套装在电容传感器(14)外；所述驱动器(4)、驱动器推杆(16)和铰链(6)三者一一对应，驱动器(4)的顶端均固定在标定台静平台(5)的底面上，驱动器推杆(16)固定在驱动器(4)的顶端，并通过驱动器推杆导向孔(5‑4)穿过标定台静平台(5)，驱动器(4)通过驱动器推杆(16)推动铰链(6)移动，铰链(6)带动标定台动平台(7)移动；所述被测面板(15)固定在标定台动平台(7)的顶面上，且位于电容传感器(14)的上方，被测面板(15)所在平面与电容传感器(14)的传感面平行；所述测量单元至少为三个，每个测量单元包括测量角反射镜(8)、导光元件支撑架(9)、导光元件固定座(10)、参考角反射镜(11)和分光镜(12)，所述测量角反射镜(8)固定在标定台动平台(7)的顶面上，所述导光元件支撑架(9)的底端固定在标定台静平台(5)的顶面上，所述导光元件固定座(10)的一端固定在导光元件支撑架(9)上，所述参考角反射镜(11)和分光镜(12)依次固定在导光元件固定座(10)的另一端，且分光镜(12)位于测量角反射镜(8)的上方，分光镜(12)与测量角反射镜(8)同光轴，且该光轴方向垂直于电容传感器(14)的传感面；所述干涉仪机构包括干涉仪底座(20)和干涉仪单元；所述干涉仪单元至少为三个且与测量单元一一对应，每个干涉仪单元包括单轴激光干涉仪(17)、干涉仪调节底座(18)和干涉仪支撑架(19)；所述干涉仪支撑架(19)的底端固定在干涉仪底座(20)上；所述干涉仪调节底座(18)固定在干涉仪支撑架(19)的顶端；所述单轴激光干涉仪(17)固定在干涉仪调节底座(18)上，单轴激光干涉仪(17)、分光镜(12)和参考角反射镜(11)同光轴，且该光轴方向平行于电容传感器(14)的传感面，单轴激光干涉仪(17)发出的激光经分光镜(12)分成相互垂直的参考光和测量光，参考光经参考角反射镜(11)反射回分光镜(12)，并经分光镜(12)透射回单轴激光干涉仪(17)，测量光经测量角反射镜(8)反射回分光镜(12)，并经分光镜(12)反射回单轴激光干涉仪(17)。 |
