发明名称 低形成电压的阻变存储器及其制备方法
摘要 本发明公开了一种低形成电压的阻变存储器,包括依次叠层设置在衬底上的惰性电极层、电阻转变层和活性电极层;还包括设置在电阻转变层和活性电极层之间的一含有缺陷的界面层。本发明还公开了上述低形成电压的阻变存储器的制备方法,包括步骤:A、在衬底上依次制备惰性电极层、电阻转变层和活性电极层;B、将具有惰性电极层、电阻转变层和活性电极层的结构在缺氧气氛中退火。该方法充分利用活性电极层的吸氧能力,通过退火处理,使得活性电极层吸收电阻转变层中的氧离子,在活性电极层与电阻转变层之间形成含有缺陷的界面层,并且使电阻转变层中产生大量氧空位,该方法可更好的控制氧空位缺陷的形成。
申请公布号 CN106299107A 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201510271467.4 申请日期 2015.05.25
申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 杜刚;王超;李涛;曾中明;张宝顺
分类号 H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人 孙伟峰
主权项 一种低形成电压的阻变存储器,包括依次叠层设置在衬底上的惰性电极层、电阻转变层和活性电极层,其特征在于,所述电阻转变层和所述活性电极层之间还包括一含有缺陷的界面层。
地址 215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号