发明名称 |
低形成电压的阻变存储器及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种低形成电压的阻变存储器,包括依次叠层设置在衬底上的惰性电极层、电阻转变层和活性电极层;还包括设置在电阻转变层和活性电极层之间的一含有缺陷的界面层。本发明还公开了上述低形成电压的阻变存储器的制备方法,包括步骤:A、在衬底上依次制备惰性电极层、电阻转变层和活性电极层;B、将具有惰性电极层、电阻转变层和活性电极层的结构在缺氧气氛中退火。该方法充分利用活性电极层的吸氧能力,通过退火处理,使得活性电极层吸收电阻转变层中的氧离子,在活性电极层与电阻转变层之间形成含有缺陷的界面层,并且使电阻转变层中产生大量氧空位,该方法可更好的控制氧空位缺陷的形成。 |
申请公布号 |
CN106299107A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201510271467.4 |
申请日期 |
2015.05.25 |
申请人 |
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
发明人 |
杜刚;王超;李涛;曾中明;张宝顺 |
分类号 |
H01L45/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 |
代理人 |
孙伟峰 |
主权项 |
一种低形成电压的阻变存储器,包括依次叠层设置在衬底上的惰性电极层、电阻转变层和活性电极层,其特征在于,所述电阻转变层和所述活性电极层之间还包括一含有缺陷的界面层。 |
地址 |
215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号 |