发明名称 一种III‑V族半导体晶体的生长装置及生长方法
摘要 本发明提供了一种III‑V族半导体晶体的生长装置,包括:石英管(1),所述石英管包括上部的圆柱等径区(1‑1)、中部的倒锥形扩肩区(1‑2)以及底部的圆柱籽晶区(1‑3);设置于所述石英管内部的坩埚(2),所述坩埚包括上部的圆柱等径区(2‑1)、中部的倒锥形扩肩区(2‑2)以及底部的锥形籽晶区(2‑3);设置于所述石英管的圆柱等径区的上方内侧壁的石英支撑环(4);设置于所述石英支撑环上的石英槽(3),所述石英槽(3)的中心位置设置有开口。
申请公布号 CN106283176A 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201610839770.4 申请日期 2016.09.21
申请人 广东先导稀材股份有限公司 发明人 狄聚青;朱刘
分类号 C30B11/00(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I 主分类号 C30B11/00(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 赵青朵
主权项 一种III‑V族半导体晶体的生长装置,其特征在于,包括:石英管(1),所述石英管包括上部的圆柱等径区(1‑1)、中部的倒锥形扩肩区(1‑2)以及底部的圆柱籽晶区(1‑3);设置于所述石英管内部的坩埚(2),所述坩埚包括上部的圆柱等径区(2‑1)、中部的倒锥形扩肩区(2‑2)以及底部的锥形籽晶区(2‑3);设置于所述石英管的圆柱等径区的上方内侧壁的石英支撑环(4);设置于所述石英支撑环上的石英槽(3),所述石英槽(3)的中心位置设置有开口。
地址 511500 广东省清远市清新县禾云镇工业区(鱼坝公路旁)