光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法和制备方法

摘要

本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法和制备方法；利用检查用光学系统检查在具有在基底上形成的至少一个薄膜的光掩模坯的表面部分上存在的缺陷的方法。该方法包括设定缺陷和检查用光学系统的物镜之间的距离为离焦量，通过物镜对缺陷施加检查光，通过物镜将来自用检查光照射的区域的反射光作为放大图像聚集，识别放大图像的光强度变化部分，并且基于放大图像的光强度变化部分的光强度上的变化测定缺陷的凹凸形状。

主权项

通过使用检查用光学系统检查存在于光掩模坯表面部分的缺陷的方法，所述光掩模坯包括在基底上形成的至少一个薄膜，该方法包括：(A1)使缺陷和该检查用光学系统的物镜彼此接近、设定缺陷和该物镜之间的距离为焦距，以及，在这样设置的该焦距下通过该物镜对缺陷施加检查光的步骤；(A2)通过物镜将来自用检查光照射的区域的反射光作为该区域的第一放大图像聚集的步骤；(A3)识别第一放大图像的光强度变化部分并且基于第一放大图像的光强度变化部分的光强度上的变化测定缺陷的凹凸形状的第一测定步骤；(B1)设定该缺陷和该检查用光学系统的物镜之间的距离为偏离该焦距的离焦量，并且在这样设置的该离焦量下通过该物镜对缺陷施加检查光的步骤；(B2)通过物镜将来自用检查光照射的区域的反射光作为该区域的第二放大图像聚集的步骤；以及(B3)识别第二放大图像的光强度变化部分并且基于第二放大图像的光强度变化部分的光强度上的变化再测定缺陷的凹凸形状的第二测定步骤。