发明名称 |
气相沉积膜设备用辐射屏蔽装置 |
摘要 |
气相沉积膜设备用辐射屏蔽装置,包括能量输出装置,极板,金属屏蔽罩和腔室。能量输出装置与极板连接。金属屏蔽罩设置在能量输出装置和极板之间。极板设置在腔室的上端。金属屏蔽罩是由外面的金属罩和内部的支撑框架构成的方型开口结构,金属罩的外表面设有导电膜。金属罩与极板接触处设有弹性结构导体。本发明在屏蔽高能量产生的电场辐射同时,可以作为极板与能量输出(过滤、匹配)装置之间接地回路,并承载能量输出(过滤、匹配)装置的自身重量,而且弹性结构导体可以保证良好的屏蔽效果。 |
申请公布号 |
CN106304816A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201510260716.X |
申请日期 |
2015.05.21 |
申请人 |
沈阳拓荆科技有限公司 |
发明人 |
王燚;刘亿军 |
分类号 |
H05K9/00(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I |
主分类号 |
H05K9/00(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 |
代理人 |
李绪岩 |
主权项 |
气相沉积膜设备用辐射屏蔽装置,其特征在于:包括能量输出装置,极板,金属屏蔽罩和腔室;能量输出装置与极板连接,金属屏蔽罩设置在能量输出装置和极板之间,极板设置在腔室的上端,金属屏蔽罩是由外面的金属罩和内部的支撑框架构成的方型开口结构,金属罩的外表面设有导电膜,金属罩与极板接触处设有弹性结构导体。 |
地址 |
110179 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层 |