Method for Etching of Magnetic Thin Films Using Acetic Acid Gas

摘要

본 발명은 자성 박막의 식각방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 종래의 식각법에 비하여 부식성 없고 매우 저렴하며, 안전한 기체인 아세트산(CHCOOH) 가스를 사용하여 식각하는 새로운 방법으로 재증착이 발생하지 않고, 적절한 식각 속도 및 높은 이방성의 식각 프로파일을 제공하여 자성 박막이 이용되는 모든 소자 및 기기들에 적용할 수 있으며, 특히 미세 패턴의 형성에 효과적인 자성 박막의 식각방법에 관한 것이다.