| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE MATERIAL COATING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH01173719(A) |
申请公布日期 |
1989.07.10 |
| 申请号 |
JP19870333429 |
申请日期 |
1987.12.28 |
| 申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
AOKI OSAMU;MAEJIMA TARO;YADA TOSHIO |
| 分类号 |
G03C1/74;B05D1/40;G03F7/16;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
G03C1/74 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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