| 摘要 |
본 발명은 반도체 제조를 위한 매거진 세척공정에서 사용되는 세정액 조성물에 관한 것으로, 산성 화합물, 아민 화합물, 계면활성제, 소포제, 유기첨가제 및 물을 포함할 수 있다. 본 발명은 유기물질 및 무기물질을 한가지 용액으로 효율적으로 제거할 수 있는 매거진 세정액 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 매거진 세정액 조성물은 매거진의 손상이나 부식 없이 매거진에 오염된 불순물을 효과적으로 세정함으로써, 매거진을 통한 웨이퍼나 기판의 오염을 방지함에 따라, 반도체 등의 신뢰성이나 수율을 향상할 수 있다. |
